在过去9个多月时间里，中微半导体设备有限公司取得了一系列成果：反应台交付量突破400台；单反应台等离子体刻蚀设备已交付韩国领先的存储器制造商；双反应台介质刻蚀除胶一体机研制成功，这是业界首次将双反应台介质等离子体刻蚀和光刻胶除胶反应腔整合在同一个平台上……

　　“中微的成绩，显示了我们从2004年成立以来，一直保持了强劲技术和业务发展势头。”中微公司董事长兼首席执行官尹志尧表示，“我们的技术团队，每天都在为推动技术的进步，为给客户提供最好的技术和设备，并为节省生产成本而努力奋斗，实现我国集成电路产业的赶超。”

　　据介绍，目前我国集成电路芯片有80%依靠进口。尹志尧认为，改变这一情况的关键在人才。据了解，一个16纳米的微观逻辑器件有60多层微观结构，要经过1000多个工艺步骤，要攻克上万个技术细节才能加工出来。只看等离子体刻蚀这个关键步骤，它的加工尺度为普通人头发丝的五千分之一，加工的精度和重复性要达到五万分之一。

　　中微公司从2004年成立之初，就营造友好、包容、开明的企业文化氛围，大力吸引来自不同国家和地区、拥有不同背景的优秀人才。中微也吸收一些从高校、研究所毕业的新人，早期加入的一些国内员工通过努力已经成为企业的骨干。

　　尹志尧说，中微是一个研发型企业，其核心不在于企业有多少设备、多少厂房、多少土地，而是有多少优秀的、一流的人才。吸引人才、培养人才，在中微是企业发展头等重要的大事。有了人才，还要能够“人尽其才”。为了实现这一目标，中微对于研发中的挫折和失败始终保持开放的态度，鼓励研发人员大胆创新。

　　中微为研发人员创造了相对宽松的创新环境。在这样一支敢于创新、善于创新的技术力量支撑下，中微有了持续的技术进步。比如，中微在刚刚涉足IC芯片介质刻蚀设备时，就推出了65nm等离子介质刻蚀机产品，随着技术的进步一直做到45nm、32nm、28nm等，一直到现在客户生产线上运行的16nm产品。同时，中微一些基础的研发也不断地跟进尖端技术，以保证产品的研发能够紧紧跟上甚至领先于国际上的技术发展水平。(经济日报记者 李治国)